參賽規則(2020)
報名參加本獎項者於報名之同時,即視為同意本內容。
1. 關於參賽
1-1. 參賽對象
我們徵集在時尚 / 文化 / 藝術領域的 xR(VR/AR/MR)內容。對象是使用「STYLY」(https://styly.cc) 這個為藝術家提供空間表徵場所的 VR/AR/MR 創作平台,所製作、公開的 VR/AR 內容作品。在創作過程中可以使用 STYLY 以外的工具(例如 3DCG、遊戲引擎、DAW 等),也可以使用曾經公開發表過的作品參賽。
1-2. 關於報名參賽期間
受理報名參賽期間為 2020 年 8 月 3 日(一)至 11 月 9 日(一)12:00 (日本時間) 。
1-3. 關於參賽者
任何人均可報名參賽(也可以團體形式報名)。
1-4. 關於參加費用
免費。
1-5. 關於提交內容
參賽者應提交內容規定如下。
①一張以上的作品截圖(必須提交)
※圖檔格式 : JPEG、GIF、PNG ※建議圖片尺寸約為 10MB
②徵集作品之說明
請介紹作品名稱、作品概念或是您對作品的想法,以及使用工具。最多 400 字
③作品網址(於 STYLY 上點擊 publish 鍵後發出的網址)(必填)
④創作者簡介
- 創作者姓名(以英文填寫、最多 30 字、必填)
- 居住國家(以英文填寫、必填)
- 代表者姓名(以英文填寫、如以團體形式報名則必填)
- 電子郵件地址
- 參賽者簡介、簡歷(以英文填寫、建議填寫)最多 400 字
⑤作品介紹影片網址 (3 分鐘以內)(必須提交)
請提交一段展示作品的影片。如果您將影片設定為不公開,請一併提供觀看所需的密碼。
- 在拍攝 VR 作品時,建議您使用 STYLY Studio 相機功能。
參考:STYLY Studio 相機功能的使用方式 https://styly.cc/en/manual/webeditor-cameramode-manual/ - AR 作品請使用作品的擷取影片,或是編輯了包含擷取內容在內的體驗情形影片。
1-6. 關於參賽方式
本獎項使用由株式會社 Loftwork 所營運的 AWRD.com,在線上徵集作品。報名須註冊會員(免費)。
請準備 1-5 提交內容中所記載之內容並報名參賽。
2. 關於著作權
參賽作品之著作權均歸報名者所有,但參賽者應允許 NEWVIEW PROJECT (Psychic VR Lab、PARCO、Loftwork) 出於宣傳目的對提交作品進行複製、加工、影片化、公開,而無需徵得參賽者許可。
3. 時間表
- 徵集期間:2020 年 8 月 3 日(一)~ 2020 年 11 月 9 日(一)12:00 (日本時間正午)
- 公布初審結果(預計選出約 25 件入圍作品):預計為 2020 年 11 月中旬
- 公布最終審查結果:預計為 2020 年 12 月下旬
4. 關於評審
4-1. 評審基準 / SELECTION CRITERIA
主題:ULTRA EXPERIENCE(來設計你的超體驗吧)
- 創新 / 獨特性:是否具有不同於過往 xR 內容的新意或獨創性。
- 體驗:作為體驗設計是否具有吸引力。
- 影響力:作品是否會對既有藝術 / 文化環境產生影響。
4-2. 評審方式
NEWVIEW AWRARDS 2020 事務局將根據參賽文件與內容進行初審,選出入圍名單。之後將由評審進行最終審查,從入圍名單中選出得獎作品。除了觀賞參賽作品的介紹影片外,對 VR 作品將使用 PC VR 進行體驗;對 AR 作品將使用安裝 STYLY Mobile 的智慧型手機或平板裝置進行體驗,來對作品進行審查。
5. 關於展示會
通過初審選出的入圍作品,將在預定於東京舉辦的入圍作品展上展出。
6. 報名注意事項
6-1. 禁止事項
- 禁止在提交作品的過程中出現任何詐欺行為。
- 參賽作品僅接受獨力創作完成之作品。
如果參賽作品使用含有第三方創作之素材(例如美術品、照片、字體等),則參賽者本身應取得創作者之許可。如果參賽者使用了侵害第三方權利之素材,一經發現,將立刻屏除評選資格。 - 此外,即使第三方向參賽者或主辦方提出權利侵害或損害賠償,主辦方也不會承擔任何責任。
- 禁止任何觸犯日本國內法與國際法之行為。禁止對第三方造成身體上或精神上之損害、毀損第三方之名譽或侵害第三方的任何權利。此外也禁止任何違反公序良俗之行為。
6-2. 免責條款
- 不符合參賽指南中所規定之參賽方式與規格之作品,將從評審對象中排除。
- 經評審,若無符合獎項之作品參賽,則該獎項從缺。
- 恕不回覆任何參賽者所提出關於審查情形、結果之洽詢。
6-3. 關於個人資料之使用
您提供給本獎項的個人資料,僅供審查及與獎項進行相關之聯繫目的使用。未經本人同意,我們不會向第三方公布、提供個人資料,除了在業務執行之必要範圍內向接受業務委託方公開、提供之情形外。
以上